特許庁では9月26日(月)、今年改正された意匠審査基準と、デザインの産学連携に関する「デザイン保護セミナー」を東京ミッドタウン内のインターナショナル・デザイン・リエゾンセンターにて開催する。

特許庁では全国の大学を対象にデザイン分野における産学連携の実施状況や、そこで創出されたデザインの保護の取り組み実態について調査・分析を行った。セミナーの第1部では、知的財産権の取扱いの視点からデザイン分野の産学連携を円滑に行うための課題を整理し、大学の「知」を企業等が円滑に活用するにはどのような環境整備が必要なのかについてまとめた研究成果を発表する。

また、デザイン保護の中核となるのが意匠権であり、特許庁では意匠審査基準に基づいて意匠登録の要件を満たしているかを判断しているが、今夏、意匠権の取得をより円滑に行うことができるよう、意匠登録出願の審査基準の見直しが行われた。
そこで、セミナーの第2部では、改訂された意匠審査基準について、そのポイントである「部分意匠の図面提出要件の見直し」「画面デザインの登録要件の明確化」について特許庁の意匠審査基準室の担当者が解説する。受講料は無料(事前申込み制/先着順)。