来たる4月1日より、画像デザインの登録要件に関する特許庁の意匠審査基準が緩和されます。スマートフォンなどのデジタル製品の急速な普及により、インターフェイスやインタラクションなど操作画像のデザインの重要性が高まる中、画像を含む意匠に関する審査基準の緩和により、意匠登録可能なものが拡充されます。また、誰でも自分のPCで画像デザインの意匠権調査ができるサービス「画像意匠公報検索支援ツール」が、昨年秋から始まっています。さらに、昨年5月から、日本でも「ハーグ協定に基づく意匠の国際登録制度」の利用が始まり、海外で意匠権を取得する際の有効な選択肢が増えました。こうした意匠制度に関する近年の改正項目のうち、デザイナーが特に知っておくべき情報について、特許庁意匠課のご担当者からわかりやすく説明していただく会を、下記のとおり開催します。

当日は、産業構造審議会意匠制度小委員会の委員を務められているロフトワークの林千晶さんにもゲストとしてお越しいただき、今回の改正に関してデザイナーが持つべき視点などについてご意見をいただきます。
皆さまのご参加をお待ちしています。

デザイナーのための「意匠制度の改正に関する説明会」

日時: 2016年4月14日(木)17:00-19:00
会場: 東京ミッドタウン・デザインハブ内
 インターナショナル・デザイン・リエゾンセンター(港区赤坂9-7-1 ミッドタウン・タワー 5F)
プログラム:
 ・ハーグ協定に基づく意匠の国際登録制度
 ・画像を含む意匠に関する意匠審査基準の改訂
 ・質疑応答、意見交換

スピーカー:
伊藤宏幸(特許庁 意匠課 意匠制度企画室長)
林千晶(ロフトワーク 代表取締役、産業構造審議会意匠制度小委員会、意匠審査基準ワーキンググループ委員)
参加費:無料(定員100名・先着順)

申し込み方法:
 タイトルを「意匠制度の改正に関する説明会」とし、 以下事項をご記入の上、info@g-mark.orgまでメールにてお申込下さい。
 ・ 御社名
 ・ご出席者名(複数の場合は出席人数)
 ・ご連絡先E-mail

参考: 林千晶さんのコラム
http://www.loftwork.jp/column/2016/20160119_law_design.aspx
http://www.loftwork.jp/column/2016/20160119_law_design2.aspx

備考:
当日は 15:00-16:30でグッドデザイン賞の応募説明会も同じ会場で行います。
お時間の都合がつく方はこちらにもご参加ください。